YLMO 520
3D 프린팅 및 현미경 응용에 적합한 고안정 펨토초 파이버 레이저
(Menlo Systems)
YLMO 520은 520 nm 출력을 제공하는 주파수 배가 이터븀 도핑 펨토초 파이버 레이저 시스템입니다. 500 mW 이상의 평균 출력, 150 fs 미만의 펄스 폭, 1040 nm 기본파 동시 사용 기능을 제공하며, 출력 분할 비율을 유연하게 설정할 수 있습니다. 높은 피크 출력과 장기 안정성을 바탕으로 다광자 여기, 펌프-프로브 분광, 2광자 중합, 초고속 분광 및 바이오이미징 응용에 적합합니다. Menlo Systems의 펨토초 파이버 레이저는 최신 파이버 기술과 사용 편의성을 결합하여 안정적인 연구용 초고속 레이저 솔루션을 제공합니다.
주요 사양
- - 파장 520 nm / 1040 nm
- - 평균 출력
>500 mW @ 520 nm
>4 W @ 1040 nm - - 반복률 100 MHz
- - 펄스 폭
<150 fs @ 520 nm
<100 fs @ 1040 nm
특징
- - figure 9® 기술 적용
- - 안정적인 모드 잠금
- - 장기간에 걸친 안정적 운용
- - 2색 출력(Dual Color Output) 지원
- - 정기 유지보수 불필요 설계
- - 컴팩트한 구조와 저소음 운용
적용 분야
- - 2광자 중합 (3D Printing) (Two-Photon Polymerization)
- - 다광자 현미경 (Multiphoton Microscopy)
- - 펌프-프로브 분광법 (Pump Probe Spectroscopy)
성능 데이터
진폭 노이즈 : 0.5% rms 미만 (24시간 기준)
재현성 : 안정적이고 일관된 레이저 성능
광학 성능 : 자기상관(Autocorrelation) 및 광 스펙트럼
일반 사양
모델 (Model) | YLMO 520 |
중심 파장 (Center Wavelength) | 520 nm ± 5 nm |
펄스 폭 (Pulse Width - FWHM) | < 150 fs (Gaussian) |
평균 출력* (Average Power) | > 500 mW (higher output power upon request) |
펄스 에너지 (Pulse Energy) | > 5 nJ |
반복률* (Repetition Rate) | 100 MHz |
출력 포트 (Output Port) | free space |
편광 (Polarization) | linear, s-polarized |
빔 발산각 (Beam Divergence) | <2 mrad |
빔 품질 (Beam Quality) | M² <1.2 (typ. <1.1) |
보조 출력 포트** (Auxiliary Output Port) | free space, > 4W average power, 1040 nm, <100 fs |
요구사항 및 외형 치수 (Requirements and Dimensions) | |
동작 전압 (Operating Voltage) | 100-120 V (50/60 Hz), 220-240 V (50/60 Hz) |
최대 소비 전력 (Max. Power Consumption) | 200 W |
동작 온도 (Operating Temperature) | 15 °C - 30 °C |
레이저 헤드 (Laser Head) | 265 x 220 x 113 mm³ / <10 kg |
제어 유닛 (Control Unit) | 19”, 2 HU (449 x 496 x 96 mm³), <20 kg |
연결 케이블 길이 (Umbilical Cord Length) | 2 m*** |
인터페이스 (Interfaces) | USB, Interlock, Trigger-Out |
*평균 출력, 펄스 폭 및 반복률의 조합에 대해서는 별도 문의해 주시기 바랍니다.
**520 nm와 1040nm 출력 포트는 전환 사용이 가능하며, 출력 분배 비율은 임의로 조정할 수 있습니다.
***엄빌리컬 케이블(연결 케이블) 길이는 요구 사양에 따라 조정 가능하므로 별도 문의해 주시기 바랍니다.
선택 사양
- - 고속 진폭 변조 (Fast Amplitude Modulation)
YLMO 시리즈
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1045 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 4 W (@ 100 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 40 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 80 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 520 nm ± 5 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 500 mW (higher output power on request)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 5 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 930 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 0.5 W
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 10 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 140 fs, (typ. < 120 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : factory set between 1030 nm and 1064 nm, ± 1 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 200 mW (@ 50 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 4 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : chirped, supporting < 150 fs
- 파장 범위 (Wavelength Range) : 3 – 5 µm (tunable within this range, other wavelength on request)
- 평균 출력 (Average Power) : > 100 mW in selected spectrum (> 100 mW 3.0 – 4.0 µm, above 4.0 µm best effort)
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