
ELMO 780 XHP
2광자 중합 및 다광자 현미경용 초고속 OEM 펨토초 파이버 레이저
(Menlo Systems)

ELMO 780 XHP는 780 nm 고출력 펨토초 파이버 레이저로, 최대 1.5 W 평균 출력과 100 fs까지의 짧은 펄스 폭을 제공합니다. 1560 nm 기본파에서 최대 1 W를 제공하는 추가 출력 포트를 지원하며, 초소형 설계로 실험실 및 장비 통합 환경에서 높은 공간 효율성을 제공합니다. 고속 진폭 변조와 분산 사전 보정 기능이 통합되어 다광자 현미경, 3D 나노프린팅, 비선형 광학 응용에 적합합니다.
주요 사양
- - 파장 : 780 nm
- - 평균 출력 : >1W
- - 펄스 폭 : <150 fs
- - 반복률 : 100 MHz
- - 고속 광 변조기
- - 분산 사전 보정
특징
- - AOM 및 처프를 통합한 초고속 레이저 헤드
- - 저진폭 노이즈 저위상 노이즈 기반 안정적 레이저 출력
- - 고안정 초고속 레이저 운용
- - figure 9 기술
적용 분야
- - 3D 나노 프린팅 (3D Nano Printing)
- - 다광자 현미경 (Multi-Photon Microscopy)
- - 초고속 분광 (Ultrafast Spectroscopy)
- - THz 발생 및 THz 물리 (THz Generation & THz Physics)
성능 데이터



일반 사양
모델 (Model) | ELMO 780 XHP |
포함 모듈 (Contained Modules) * | 19“ control unit, compact laser head |
출력 특성 780 nm (Output Characteristics 780nm) | |
중심 파장 (Center Wavelength) | 780 ± 10 nm |
평균 출력 (Average Power) | > 1 W (typ. 1.2 W) |
펄스 폭 (Pulse Width) | < 150 fs (typ.120 fs) |
반복률 (Repetition Rate) | 100 MHz +/-1MHz |
출력 포트 (Output Port) | free space |
빔 품질 (Beam Quality) | M² < 1.2 |
편광 (Polarization) | linear, s-polarized |
분산 사전 보정 (Dispersion Precompensation) | up to -30.000 fs² |
고속 진폭 변조 (Fast Amplitude Modulation)** | integrated AOM for fast light modulation |
선택 사양 (Options) | |
1560 nm 출력 포트 (1560 nm Output Port) | free space, up to 1W |
다중 출력 포트 (Multiple Output Ports) | please inquire for additional oscillator/amplifier output ports |
요구 사항 및 외형 치수 (Requirements and Dimensions) | |
예열 시간 (Warm-Up Time) | < 60 s |
동작 온도 (Operating Temperature) | 18-30°C |
보관 온도 (Storage Temperature) | 0°C – 50 °C |
동작 전압 (Operating Voltage) | 100/115/230 VAC |
소비 전력 (Power Consumption) | < 150 W |
통신 옵션 (Communication Options) | software/USB |
레이저 헤드 크기 / 중량 (Laser Head Dimensions / Weight) | 240 x 170 x 79.5 mm³ / < 5 kg |
컨트롤러 크기 / 중량 (Controller Dimensions / Weight) | 19”, 2 HU (449 x 496 x 96 mm³) / < 20 kg |
*컨트롤러와 레이저 헤드는 전용 연결 케이블로 일체형 연결
**아날로그 입력: 0-5 V, 상승/하강 시간 300 ns 이하 (typ. 180 ns)
***390 nm 출력 100 mW 이상(최대 300mW), 780 nm/390 nm 간 임의의 출력 분할 비율 설정 가능(요청 시)
선택 사양
- - 390 nm 출력 포트:
- 추가 SHG 모듈 포함:
- 390 nm 자유공간(free-space) 출력, 최대 30 mW
- VARIO: 사용자 정의 반복
공장에서 설정된 값으로, 50-250 MHz 범위에서 선택 가능
ELMO 시리즈
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm
- 평균 출력 (Average Power) : up to 60 mW
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs (typ. 100 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 180 mW
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 60 fs (typ. 45 fs)
ELMO HIGH POWER-FS (ELMO HP-FS)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 330 mW
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 90 fs (typ. 70 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 75 mW (typ. 85 mW)
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 100 fs (typ. 85 fs)
ELMO 780 HIGH POWER (ELMO 780 HP)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 140 mW (typ. 165 mW)
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 100 fs (typ. 85 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 1 W (typ. 1.2 W)
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs (typ.120 fs)
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