ORS-ULN
Ultra-Low-Noise Ultrastable Laser System
(Menlo Systems)
10⁻¹⁷ 수준의 탁월한 주파수 안정도를 갖는 초저노이즈 광 기준 시스템
ORS-ULN은 1542 nm 파장에서 <40 mHz 초협선폭과 1초 기준 10⁻¹⁷ 수준의 분수 주파수 안정도를 제공하는 초고안정 레이저 시스템입니다. Menlo Systems와 독일연방물리기술원(PTB)의 공동 개발로 완성된 이 장비는 초고피네스 단결정 실리콘 캐비티를 광 기준으로 사용하며, PTB와 JILA가 처음 시연한 212 mm 실리콘 캐비티 설계를 기반으로 연속파(cw) 레이저의 주파수를 극도로 안정화합니다.
기준 캐비티는 진동 분리, 음향 차폐, 123 K 실리콘 제로 크로싱 온도 안정화를 통해 매우 낮은 선폭과 높은 주파수 안정도를 확보합니다. 또한 운송용 잠금 메커니즘을 적용하여 초고안정 레이저 시스템의 이동성과 설치 편의성을 높였습니다. ORS-ULN은 광학 랙, 전자 랙, 폐쇄 사이클 냉각기로 구성되며, 출하 전 모든 시스템에 대해 동등하거나 더 우수한 기준 시스템과 비교한 특성 평가를 수행합니다.
주요 사양
- 파장 : 1542 nm
- 안정도(MADEV, 1 s) : <9.6 x 10⁻¹⁷
- 선폭 : <40 mHz
적용 분야
- 광 원자 시계 (Optical Clocks)
- 광 주파수 기반 차세대 시각 체계 개발 (Development of Next-generation Time-scale Based on Optical Carriers)
- 중력파 검출 (Gravitational Waves Detection)
- 표준 모형을 넘어서는 물리 현상 탐색 (Search for Physics Phenomena Beyond the Standard Model)
특징
- 초고피네스(Ultra-high-finesse) 단결정 실리콘 공진기
- 123 K 영점 교차 온도 안정화
- 초고진공(UHV: Ultra-high Vacuum) 시스템
- 운송 잠금(Transportation-lock) 매커니즘
- 파이버 결합(Fiber Coupling)
- 광학 구성, 전자 장치 및 파이버 랙, 냉각 시스템을 포함한 통합 상용 솔루션
일반 사양
모델 (Model) | ORS-ULN | ||
중심 파장 (Central Wavelength) | 1542 nm | ||
안정도 - MADEV at 1s (Stability - MADEV at 1s) | <9.6 x 10⁻¹⁷⁽¹⁾ | The stability performance is subject to further improvements | |
선폭 (Linewidth) | <40 mHz ⁽²⁾ | ||
절대 선형 주파수 드리프트율 (Absolute Linear Drift Rate) | <10 mHz/s ⁽³⁾ | ||
평균 출력 (Output Power) | >5 mW (FC/APCc connector) | ||
외형 치수 와 중량 (Dimensions and Mass) | Optical part: 50 cm (L) x 60 cm (W) x 100 cm (H); Mass: 120 kg | Electronics and Fiber rack: 60 cm(L) x 80 cm (W) x 150 cm (H); Mass: 250 kg | Cooling system: 28 cm(L) x 45 cm (W) x 37 cm(H); Mass: 32 kg |
동작 전압 (Operating Voltage) | 100 / 115 / 230 VAC at 50 Hz - 60 Hz | ||
동작 온도 (Operating Temperature ) | T_lab = 22 ± 5 °C | The lab temperature must be stabilized within ± 0.5 °C | |
전력 소비 (Power Consumption) | <700 W | ||
⁽¹⁾ T_lab = 21±0.3 °C. 조건에서 측정
⁽²⁾ 잠금 후 선폭, 측정 시간 t >150 s.
⁽³⁾ T_cavity = 123 K 조건에서 측
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